Globalfoundries pensa alla litografia Extreme Ultraviolet

Globalfoundries pensa alla litografia Extreme Ultraviolet

Globalfoundries installerà un macchinario per la produzione EUV nel corso del 2012, che verrà impiegato per la produzione in volumi a partire dal 2014 o 2015

di Andrea Bai pubblicata il , alle 11:54 nel canale Mercato
 

Nel corso della giornata di ieri un dirigente di Globalfoundries ha annunciato che l'azienda installerà uno strumento per la produzione mediante le tecniche di Extreme Ultraviolet (EUV) nel corso della seconda metà del 2012 e userà l'EUV per le attività di produzione in volumi a partire dal 2014 o dal 2015.

Durante un keynote in occasione del Semicon West di San Francisco, Gregg Bartlett, senior vice president della divisione Technology and R&D per Globalfoundries, ha dichiarato che l'azienda ha scelto di rinunciare acquisto di uno strumento EUV di preproduzione. Al contrario, diverse compagnie, incluse Intel Corporation, Samsung Electronics, Toshiba e TSMC hanno ordinato strumento EUV di pre-produzione da ASML Holding NV.

Ricordiamo che Globalfoundries fa parte della IBM Technology Alliance: in questo modo l'azienda ha la possibilità di scavalcare la fase di valutazione degli strumenti di pre-produzione ed installare i macchinari defnitivo presso la Fab 12. Si tratta di una mossa sicuramente non priva di rischi, ma che Globalfoundries avrà la capacità di contenere grazie alla collaborazione e al supporto degli altri membri dell'alleanza IBM.

Bartlett ha poi spiegato che i processi attualmente impiegati di litografia ad immersione a 193 nanometri, fanno uso della tecnica di "double patterning", che consente di estendere il processo fino a nodi di produzione avanzati. Questa tecnica è diventata però particolarmente costosa e lo stesso Bartlett ripone le speranze nella litografia EUV per la riduzione dei costi di produzione.

"Possiamo trarre ciò che abbiamo imparato con le tecniche di immersione ed applicarlo alla produzione EUV ad alti volumi. Dal nostro punto di vista, la litografia ad immersione ci potrà portare verso la produzione a 22 e a 20 nanometri, ma non senza importanti sfide sui costi e con maggior complessità. Abbiamo bisogno di un'altra soluzione e nella nostra visione EUV è il candidato più promettente" ha commentato Bartlett.

14 Commenti
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jestermask15 Luglio 2010, 11:57 #1
Ma la litografia extreme ultraviolet esiste già da tempo giusto? Io l'ho studiata mesi fa e la studiavo come tecnologia già in uso, o sto sbagliando?
frankie15 Luglio 2010, 12:21 #2
a quando la litografia a raggi X ?
Mparlav15 Luglio 2010, 12:26 #3
A parziale rettifica:
http://www.xbitlabs.com/news/other/...chnologies.html

"UPDATE: The story has been corrected to reflect clarifications made by Globalfoundries. Apparently, EUV will not be used for 20nm and 22nm fabrication processes, but is aimed at sub-20nm technologies, e.g., 16nm. As a result, the announcement does not have any negative consequences for Globalfoundries customers"
coschizza15 Luglio 2010, 13:03 #4
Originariamente inviato da: jestermask
Ma la litografia extreme ultraviolet esiste già da tempo giusto? Io l'ho studiata mesi fa e la studiavo come tecnologia già in uso, o sto sbagliando?


la EUV è in fare di ricerca da oltre un decennio e ancora non simo arrivati ad avere dei macchinari per la produzione che non siano puri esperimenti di laboratorio

ci vorranno ancora anni per cominciare a vedere i primi utilizzi commerciali, diciamo che si pensa verra usata sotto i 20nm e non prima
McB15 Luglio 2010, 13:45 #5
Premetto che sono ignorantissimo in materia. Ma ci mettono 2 anni per far andare in produzione una macchina?
Bastian_Contrario15 Luglio 2010, 13:52 #6
Originariamente inviato da: McB
Premetto che sono ignorantissimo in materia. Ma ci mettono 2 anni per far andare in produzione una macchina?


se la tecnologia che usa richiede più ingegnerizzazione di quella che si usa per lanciare uno shuttle, non vedo perchè no
marchigiano15 Luglio 2010, 13:55 #7
Originariamente inviato da: frankie
a quando la litografia a raggi X ?


ma con quella luce riesci a incidere il silicio?
dr-omega15 Luglio 2010, 14:24 #8

Extreme Ultraviolet?

Extreme Ultraviolet?
Pensavo fosse il seguito del brutto film con Milla Jovovich...
http://it.wikipedia.org/wiki/Ultraviolet
Bastian_Contrario15 Luglio 2010, 14:39 #9
Originariamente inviato da: dr-omega
Extreme Ultraviolet?
Pensavo fosse il seguito del brutto film con Milla Jovovich...
http://it.wikipedia.org/wiki/Ultraviolet


dove magari extreme sta a significare una variante "hardcore"
AceGranger15 Luglio 2010, 15:54 #10
Originariamente inviato da: marchigiano
ma con quella luce riesci a incidere il silicio?


mica incidi il silicio...

la luce ultravioleta serve per cabiare le proprieta del photoresist creando la maschera dal negativo proiettato.

il silicio lo drogherai/ossiderai successivamente utilizzando la maschera creata con il photoresist

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