IMEC pronta al test di un nuovo processo produttivo

IMEC pronta al test di un nuovo processo produttivo

L'istituto di ricerca europeo ha realizzato una linea di produzione di test per saggiare l'efficacia del processo DSA - Directed Self-Assembly

di Andrea Bai pubblicata il , alle 08:57 nel canale Scienza e tecnologia
 

L'IMEC, istituto europeo di ricerca con sede a Leuven, in Belgio, ha portato a termine lo sviluppo congiunto di un nuovo processo di produzione di tipo DSA - Directed Self-Assembly che consente di migliorare i processi di litografia ottica ed extreme-ultraviolet, installando inoltre una linea produttiva compatibile con i 300 mm nella sua fabbrica pilota. I dettagli della nuova implementazione sono illustrati in occasione della SPIE advanced lithography conference di San Jose dal 12 al 16 febbraio.

Il passaggio del processo DSA da una configurazione di laboratorio ad una compatibile per la produzione in fabbrica è stato realizzato in collaborazione con l'Università del Wisconsin, AZ Electronic Materials e con Tokyo Electron Ltd. La collaborazione mira a portare la DSA verso la produzione ad elevati volumi.

La tecnologia DSA è osservata con particolare attenzione poiché consente di estendere la litografia ottica oltre i suoi attuali limiti. Si tratta di una tecnologia di patterning alternativa che, mediante l'impiego di copolimeri autoassemblanti, consente di ridurre il pitch della struttura finale stampata. La DSA può inoltre essere utilizzata per riparare difetti e uniformità della stampa originaria, questa caratteristica risulta essere di particolare utilità quando impiegata assieme alla litografia EUV, caratterizzata da variazioni locali in dimensioni critiche.

Kurt Ronse, direttore della litografia per IMEC, commenta: "La disponibilità di una linea di processo DSA ci permette di spingere ulteriormente i limiti della litografia ad immersione a 193 nanometri e superare alcune preoccupazioni cruciali per la litografia EUV. Questo ci permette di spingere ancor oltre i limiti della legge di Moore".

Paul Nealy, professore per l'Università del Wisconsin, ha invece dichiarato: "La collaborazione ha dato come risultato un'integrazione senza precedenti della DSA con strumenti e materiali pronti per la produzione, consentendo inoltre di indagare le potenzialità ed i limiti della DSA altrimenti impossibile in un allestimento accademico, e fornisce eccezionali opportunità formative per i nostri studenti. Siamo grati di essere su un percorso assieme ad IMEC verso la commercializzazione di una tecnologia sulla quale abbiamo speso quasi 15 anni di sviluppo".

IMEC sta offrendo accesso e partecipazione alla ricerca DSA come parte del suo core CMOS program, che include Globalofoundries, Intel, Micron, Panasonic, Samsung, TSMC, Elpida, Hynix, Fujitsu e Sony tra i partecipanti.

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