IMEC: una fabbrica per wafer a 450mm nel 2015

IMEC: una fabbrica per wafer a 450mm nel 2015

L'istituto di ricerca europeo delinea i tempi per la realizzazione di una fabbrica di produzione in grado di gestire i wafer da 450mm

di Andrea Bai pubblicata il , alle 10:22 nel canale Scienza e tecnologia
 

L' IMEC, istituto di ricerca europeo sulla nanoelettronica, afferma che entro il 2015 saranno disponibili i primi sistemi a litografia ultravioletta in grado di impiegare wafer da 450 millimetri e pertanto sarà necessario disporre per allora di una clean room dedicata in grado di gestire la produzione di semiconduttori con l'impiego di wafer da 450mm.

Luc van den Hove, presidente e CEO di IMEC, ha illustrato la tabella di marcia: a partire dal prossimo anno verrà avviata la fase di test degli strumenti, passando allo sviluppo del processo a 450mm tra il 2013 ed il 2016 per approdare quindi alla produzione avanzata nel 2016. Secondo van den Hove il passaggio verso l'impiego di wafer di maggiori dimensioni è alle porte, in special modo con il recente impegno di cinque colossi dei semiconduttori, Intel, Samsung, IBM, TSMC e Globalfoundries, nella creazione di un centro di ricerca e sviluppo nello stato di New York incentrato proprio sulla produzione mediante wafer a 450mm.

"Vogliamo continuare a portare avanti ricerca e sviluppo d'avanguardia, quindi dobbiamo fare un passaggio ai 450mm con i giusti tempi, nei prossimi anni. E' fondamentale rispettare i tempi: non vi è alcun senso nel fare attività di ricerca e sviluppo in anticipo, dato che porterebbe ad un eccesso di costi" ha commentato van den Hove.

Secondo il CEO di IMEC sarà possibile adottare un approccio a due fasi: la prima parte del lavoro sino al 2015 può essere condotta nell'attuale fabbrica a 300mm, che è stata costruita appositamente per essere compatibile con la produzione a 450mm in termini di determinate specifiche, come ad esempio l'altezza dei soffitti. Questo lavoro dovrebbe essere in grado di coprire le attività di testing e di analisi dei wafer. La seconda fase richiederà invece la capacità di inserire le macchine in un processo a pieno regime con lo sviluppo di dispositivi in un ambiente comparabile a quello della produzione.

La seconda fase richiederebbe proprio una nuova clean room, che dovrà essere costruita entro il 2015 in maniera di essere già pronta per ricevere i primi strumenti per la lavorazione a 450mm, inclusi i macchinari per la litografia EUV (extreme ultraviolet). Secondo van den Hove è difficile che questa strumentazione possa essere disponibile prima del 2015.

IMEC dovrà inoltre preoccuparsi di gestire adeguatamente il finanziamento per le operazioni di espansione: il governo delle fiandre di norma supporta IMEC nei progetti di ricerca, ma l'incremento dei costi unito alle incertezze economiche metteranno l'istituto di ricerca nella condizione di dover attingere una buona parte del finanziamento dalle royalty sulle proprie attività di ricerca.

1 Commenti
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frankie12 Ottobre 2011, 14:29 #1
a quando la X-ray lithography?

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