Transistor in germanio-stagno per superare la barriera dei 10nm
L'IMEC annuncia un importante passo avanti nello sviluppo delle tecniche per la realizzazione di semiconduttori oltre i 10 nanometri
di Andrea Bai pubblicata il 19 Settembre 2013, alle 16:31 nel canale Scienza e tecnologiaUn team composto da ricercatori belgi e giapponesi è riuscito a sviluppare un processo più avanzato per l'integrazione di pellicole di MOSFET in germanio-stagno su substrati di silicio, che permetterà in futuro la realizzazione di pMOSFET al GeSn strain con geometrie inferiori ai 10 nanometri.
Il team è composto da ricercatori provenienti dalla Katholiek Universitu of Leuven, dall'IMEC e dal National Institute of Advanced Industrial Science and Technology di Tsukuba, che hanno lavorato allo sviluppo di un processo epitassiale che supera le precedenti limitazioni incontrate con la deposizione di pellicole di germanio-stagno tra cui la limitata solubilità dello stagno nel germanio, una tendenza alla separazione e un non ottimale allineamento del reticolo cristallino.
L'interesse nell'impiego del germanio-stagno è strettamente legato alla possibilità di impiegare materiali con elevata mobilità elettronica, come il germanio stesso, e alla possibilità di migliorare la mobilità mediante l'uso di reticoli lavorati per ottenere un'opportuna deformazione da tensione.
Secondo quanto affermato dall'IMEC nel comunicato, è stato possibile per la prima volta garantire l'operatività sul silicio di pMOSFET GeSen a svuotamento senza giunzione. L'uso di un substrato in silicio avrà un effetto significativo sulla riduzione dei costi di produzione, oltre a permettere l'integrazione di transistor convenzionali CMOS e GeSn.
I ricercatori sono riusciti a realizzare una pellicola single-crystal di circa 10 nanometri di spessore sul silicio, dando dimostrazione della distorsione da tensione. In questo modo si riduce la differenza di energia tra banda diretta ed indiretta, con la creazione di un materiale del gruppo IV a banda proibita diretta. La ricerca futura si focalizzerà sull'ottimizzazione dei dispositivi GeSn-on-silicon per incrementare ulteriormente la mobilità nel canale.
8 Commenti
Gli autori dei commenti, e non la redazione, sono responsabili dei contenuti da loro inseriti - infoEsattamente. Proprio per questo non sono transistor ma sono una tecnologia. Il termine CMOS indica tutti gli integrati che fanno uso di transistor complementari. In un CMOS ci sono da due a n transistor MOS di tipo P ed N. La forma più semplice è appunto quella dell'invertitore logico, composto da due Mosfet con i gate in comune, ma sempre due transistor sono. Ecco perché il CMOS è una tecnologia integrata e non un transistor in se.
Il transistor è un componente, un circuito creato sullo stesso semiconduttore è un integrato. Il CMOS è una tecnologia integrata, ovvero una tecnologia che produce coppie di transistor complementari, che può essere utilizzata in modo fine a se stesso o in un circuito integrato più complesso.
Verissimo. Inoltre c'è un altra imprecisione. La distorsione delle bande da tensione, è il fenomeno per cui si generano portatori sulla superficie del semiconduttore, mediante la deflessione delle bande, per la creazione del canale. Le bande proibite dirette o indirette sono invece proprietà del materiale e non sono influenzate dalla tensione. Non è la tensione che forma il gap proibito diretto, ma è il materiale e il procedimento impiegato. Se poi non mi ricordo male, la bandgap diretta si forma anche con il semplice germanio prodotto come il grafene (germanene).
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